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金属化学气相沉积MOCVD

简要描述:用于 5G、光子学和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系统
全自动单晶圆簇系统可在 300 毫米基板上生产 5G 射频、光子学和高级 CMOS 器件。

  • 产品型号:Propel 300mm GaN
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-13
  • 访  问  量: 161

详细介绍

Propel™ 300mm全自动单晶圆簇系统是经过行业验证的GaN MOCVD工具,能够在300mm衬底上生产5G RF、Photonic和先进的CMOS器件。

Propel 300mm 系统采用单晶圆反应器平台,能够在 300mm 晶圆上生产的高质量外延膜,具有出色的均匀性、可重复性和产量。Propel 300mm 系统可配置多达 3 个模块化集群室,并提供自动化的膜包到膜包处理,以实现最大的灵活性和生产率。

单晶圆反应器基于 Veeco  TurboDisc® 设计,包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技术,可在整个晶圆上提供层流和均匀的温度分布。客户可以轻松地将工艺从 Veeco 单晶圆反应器 Propel 和 Propel HVM 系统转移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系统,以便快速开发到生产。


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