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MBE分子束外延系统

简要描述:GENxplor® R&D MBE系统获得了化合物半导体制造的CSindustry奖,采用Veeco成熟的3英寸生长室设计,并具工艺灵活性,非常适合UV LED、高效太阳能电池和高温超导体等新兴技术的材料研究。其高效的单框架设计将所有真空硬件与机载电子设备相结合,使其比其他 MBE 系统小 40%,从而节省宝贵的实验室空间。

  • 产品型号:GENxplor R&D
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 110

详细介绍

1. 产品概述:

GENxplor® R&D MBE系统获得了化合物半导体制造的CSindustry奖,采用Veeco成熟的3英寸生长室设计,并具有工艺灵活性,非常适合UV LED、高效太阳能电池和高温超导体等新兴技术的材料研究。其高效的单框架设计将所有真空硬件与机载电子设备相结合,使其比其他 MBE 系统小 40%,从而节省宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在一个框架上,因此减少了安装时间。GENxplor的开放式架构设计还提高了易用性,提供了对积液池的便捷访问,并且与其他MBE系统相比,更容易进行维护。

直径达 3 英寸的衬底上的高质量外延层

电子束温度加热器(>1850°C)

单帧架构提高了易用性,提供了便捷的源访问和增强的可服务性

高效的一体化设计将手动系统与机载电子设备相结合,与其他 MBE 系统相比,可节省 40% 的实验室空间

非常适合对各种材料进行前沿研究,包括砷化镓、氮化物和氧化物

Molly® 软件集成了简单的配方编写、自动生长控制和始终在线的数据记录

可选的 Nova™ 超高温基板加热器,可在 1850° 下提供经过验证的性能

可直接扩展到 GEN20™、GEN200® 和 GEN2000® MBE 系统


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