多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴极和 eKLipse 高级控制软件。PVD 系列在全球拥有 500 多台设备，是一种成熟、坚固且多功能的设计，由 PVD 75 和 200 平台组成。PRO Line PVD 200 建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板加载以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新的设计提供的一些关键优势。®

PRO Line PVD 200 与以下技术兼容：

• 热蒸发（最多六艘 4 英寸的独立船）

• TORUS 磁控溅射源（最多 8 个 2“ 或 3" 源）®

• 电子束蒸发源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• LTE10 有机沉积源（最多两个）

• 上述技术的组合也可用。

• 可根据要求提供定制配置

KJLC的软件允许用户友好的配方创建，以及一个可靠、不间断的处理模块，无论计算机用户界面的状态如何，都可以完成过程。有关此直观、可靠的软件包的更多信息，请参阅“软件"选项卡。

PRO Line PVD 200 在其工艺室中提供四种类型的高真空泵，一个 Pfeiffer 790 L/s 涡轮分子泵（标准），以及可选的 1250L/s Pfeiffer 涡轮分子泵、Brooks CTI-8F 1500 L/s 或 3000 L/s 低温泵。普发涡轮分子泵是实现整体成本效益高质量泵送的不错选择，尤其适用于溅射应用。Brook CTI 低温泵可用于需要尽可能低的真空度的应用，特别是热蒸发和电子束应用。

右图显示了配备的 PRO Line PVD 200 工艺室按泵类型划分的平均预期泵送性能，该工艺室清洁干燥，安装了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺长的 1.5 英寸金属柔性波纹管粗加工管线。