原子层沉积ALD

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我们但极其灵活的原子层沉积 （ALD） 系统，专为入门级到中级用户而设计。该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积，工艺室设计促进了均匀的母离子分散和输送。加热和温度控制进一步增强了系统性能。总体而言，该ALD150LE™在紧凑的设计中提供了的灵活性和性能，而不会牺牲可维护性。

该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积，我们的垂直流设计可实现分离、均匀的前驱体输送，同时降低背景杂质水平，从而提高薄膜质量。为避免不必要的材料在输送通道内积聚和颗粒形成，有两个独立的腔室入口可用于前驱体分离。例如，可以使用单独的入口来分离金属有机前体和共反应物，以防止在输送管线和阀门中沉积。

• 两个独立的进样口，用于前驱体输送，可防止输送通道中不必要的积聚

• 开放式装载室经过精心设计，可最大限度地减少由于密封脱气和渗透引起的背景杂质

• 独立的基板加热器平台和外腔壳体，可实现出色的温度控制和均匀性

• 304L不锈钢结构

• 可访问、低维护的设计

ALD150LE™开路负载设计允许在样品引入过程中将基物（直径最大为 150 mm）直接放置在基板加热器台上。在随后的原子层沉积（ALD）处理过程中，集中式母离子输送和泵送建立了一个屏障，将下游腔室密封的杂质挡在反应区之外。弹性体腔密封件在下游的战略定位可使杂质（由于密封件释气和渗透）远离基材表面，从而提高 ALD 薄膜质量。特别是，这是在开放式负载室设计中获得高质量氮化物膜的一个重要特征。