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在高真空环境中,我们发明了一种创新的In-line Sputter生产技术,实现了高大量生产率和出色的品质。这款1Carrier/20Sheet(A4 Size)产品采用了Both Side Sputtering工艺,不仅提高了生产效率,还确保了优异的光学性能,透过率可达25%以上。
通过精密仪器的安装和优质设备的使用,我们确保了制造过程的稳定性和一致性。同时,我们采用了自主研发的优质材料,相比市面上的同类产品,大幅降低了成本,从而提升了产品的性价比。
我们专注于工艺的优化和完善,致力于提高In-Line Sputter工艺的产品品质。通过对电弧放电等关键参数的精准控制,我们能够确保产品的可靠性和一致性,同时大幅缩短了维修时间,降低了后期维护成本。
这一系列的技术创新和工艺优化,使我们的In-line Sputter产品在高真空环境下实现了高大量生产率和品质表现,为客户提供了优质高效的解决方案。我们将继续投入研发,不断推动技术进步,为客户创造更大价值。
| Chamber & Door | 5 chambers, STS(SUS)304 |
| Pumping System | PRP + MBP + DRY + TMP / DP |
| Cooling Devices | * Cryo Cooled Polycold Unit * Cooling Traps for Pumping Unit * Cooling Chiller for Cathode |
| Power Supply | DC Power Generator |
| Control Unit | PLC, Touch Screen |
| Cycle Time | 270sec / carrier (根据产品可能有所不同) |
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