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1. 产品概述:
GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求,覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用,可用于典型0.35um、0.18um工艺节点,可支持90nm工艺节点,可兼容6寸和8寸晶圆。
2. 设备应用:
晶圆尺寸
6、8 英寸
适用材料
硅,碳化硅,硅基氮化镓
适用工艺
预清洗、去胶清洗、氮化硅去除、金属去除(Co,Ti)、Recycle 清洗、抛光后清洗、Epi 前清洗、 Epi 后清洗
适用领域
集成电路、衬底材料、化合物半导体、功率半导体
3. 特色优点:
北方华创 GAMA Series 清洗机在腐蚀均匀性方面表现明显。腐蚀均匀性对于保证芯片制造的一致性和稳定性具有关键意义。
这款清洗机通过精心设计的流体流动系统、化学溶液分布机制以及温度控制策略,确保在整个晶片表面实现高度均匀的腐蚀效果。无论是在大面积的晶片还是复杂的图形结构区域,都能保持腐蚀程度的一致性。
可能采用了多喷头均匀喷淋、旋转式清洗等技术,使化学溶液能够均匀地覆盖晶片表面,避免出现局部腐蚀过度或不足的情况。同时,精准的温度控制系统能够确保整个清洗过程中温度的均匀性,因为温度的差异可能会影响腐蚀反应的速率和均匀性。在实际应用中,即使面对不同材质和厚度的晶片,该清洗机也能提供出色的腐蚀均匀性,从而有效提高芯片的质量和性能。
4.设备特点
结构设计紧凑,占地面积小
模块化设计,配置灵活、可扩展
成熟的工艺槽设计,确保工艺稳定性
精确的化学称量系统,实现高质量工艺
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