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  • KS-S150星型全自动涂胶显影机

    KS-S150星型全自动涂胶显影机用于LED-PSS工艺的涂胶显影制程及化合物半导体的涂胶显影等制程。可兼容蓝宝石、砷化镓和碳化硅等材质的晶圆,产品涉及多个应用领域,涂胶机产能大于190片/小时。设备通过了CSA认证。

    更新时间:2024-09-04
    型号:KS-S150
    厂商性质:经销商
    浏览量:247
  • KS-FT200/300 前道8/12寸涂胶显影机

    KS-FT200/300系列堆叠式高产能前道涂胶显影机,为我司自主研发的突破晶圆前道28nm工艺节点及以上工艺制程,适用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证,占地面积小、可靠性高、易于维护,满足各种功能芯片制程需求。

    更新时间:2024-09-04
    型号:KS-FT200/300 前道8/12寸
    厂商性质:经销商
    浏览量:138
  • 织雀™PL-3D Premium高精密微3D光刻机

    织雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研发的高精密微3D光刻设备, 最高光学分辨率可达1μm,支持最大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸,设备还支持对准套刻功能,可在已有结构表面进行多材料的驳接打印,在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势,而且还具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料种类多、无需模具直接成型的优点

    更新时间:2024-09-05
    型号:织雀™PL-3D Premium
    厂商性质:经销商
    浏览量:185
  • BIO L+无掩膜光刻机

    BIO系列是生命科学版的无掩膜紫外光刻机,无掩膜光刻机具有更高的深宽比,能满足生命科学领域的特殊需求。它主要用于制备像微流控芯片之类的具有特定需求的样品 。在微流控芯片的制造过程中,其高深宽比和高灵活性的特点得以展现,可确保芯片的质量和性能。这使得它成为生命科学研究和相关应用中的重要工具。BIO 系列的出现为生命科学领域带来了新的机遇。

    更新时间:2024-09-04
    型号:BIO L+
    厂商性质:经销商
    浏览量:126
  • UV Litho-S无掩膜光刻机

    Speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机,其无掩膜光刻机配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性,更在这一基础上,拥有了更高的光刻效率。其的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中,它能够发挥出其高效的优势,为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择,满足了市场对于高效率、高质量生产的需求

    更新时间:2024-09-04
    型号:UV Litho-S
    厂商性质:经销商
    浏览量:120
  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机

    ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机,其基于空间光调制技术,实现了数字掩膜光刻,灵活性使其成为科学研究。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源,设备稳定,上手简单。其的原位光绘和交互式套刻指引功能,让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持,助力科学研究领域的发展和创新。

    更新时间:2024-09-04
    型号:UV Litho-ACA
    厂商性质:经销商
    浏览量:122
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