CIF烤胶机采用智能程序化控温技术，控温精准均匀，加热快速高效，维修简单方便，控温范围在室温－360℃之间，控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高，加热均匀性要求高的实验室。

CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

CIF扫描电镜等离子清洗机采用远程等离子清洗源设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

CIF等离子去胶机 采用电感耦合各向同性（各个方向）等离子激发方式，适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体去胶。其外观美学设计，结构紧凑，漂亮大气，优化的腔体结构及合理的结构设计，使得处理样品量更大，适用范围更广，性能更稳定，操作更简便，性价比更高，使用成本更低，实用性更强，更容易维护。

CIF 生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。

1.是高洁净度的冲洗旋干设备。主要系应用于硅晶圆、掩模板、太阳能电池等材料的高洁净度冲洗旋干。设备具有单工作室、双工作室两种结构。 2.产品类型：有立式单腔，双腔晶圆甩干机(2-12寸)，水平多工位甩干机(2-12寸) 3.单次甩干数量1-25块 4.作业程序：冲洗、烘干的步骤顺序、时间、 转速等可分段编辑，（可设 recipe 为 10 个）