这款紫外臭氧清洗机，集成嵌入式控制系统，人性化设计，便捷高效，质量有保障，专业服务，是科研与实验的理想伙伴。

LEBO science的PT500真空等离子清洗机，作为Plasma Treatment Equipment，具备以下显著特点： 设备小巧，操作便捷：采用一键式操控设计，便于在科研院所等实验环境中灵活使用。 环保无污染：使用过程中无环境污染，无需化学品消耗，且机台本身不产生任何污染物。 高效清洗能力：能够迅速达成所需的表面亲水性，提升处理效率。 广泛适用性与无损处理：应用广泛，对处理产品无损伤

SUSS MicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台：MA100/150e Gen2掩模对准光刻机。化合物半导体工艺，是指诸如高亮发光二极管（HB-LEDs）、功率器件、RF-MEMS等方面的半导体应用。MA100/150e Gen2具备高精度对准功能，上至0.7µm的光刻分辨率，拥有为易碎、翘曲或透明晶圆片定制的传载系统等强大功能和配置。

MA200 3代掩模对准光刻机专为大批量生产而设计，适用于200毫米以下晶圆和方形衬底的自动化加工。本系统集全场光刻技术与多种创新功能于一身。使其成为众多应用的优秀系统，例如生产厚胶工艺MEMS、有凹凸图形的 3D 结构以及先进封装应用，如3D封装、扇出封装、凸点封装及化合物半导体和图像传感器。

ELS-HAYATE是由ELIONIX研发的超高吞吐量电子束光刻机，提供业界大的 5 毫米偏转。非常适合需要关注字段间拼接错误的应用。

ELS-BODEN是由ELIONIX开发的电子束光刻机，非常适合研究和开发！支持从高清绘图到大电流高速绘图的广泛应用。