iTops PVD AlN 溅射系统，采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸,工艺温度在 0~700℃之间。

卷对卷薄膜溅射系统装置在真空状态中对PET Film，以ITO或Metal Coating的设备, Heating, Plasma Etching, Sputter工序可以.

卷对卷薄膜溅射系统是在真空状态下用于micro phone的厚度为4u Film的Gold(AU)做Sputtering的设备.

部件镀膜设备是在真空状态下在产品外部涂层非导电体的Coating设备，由真空内产品做着自传，公转,并能保持一定的膜厚度.

它实现高大量生产性的高真空基本Sputter - 可以生产1Batch/900EA以上的产品，以沉积及Sputter工序的最佳化，提升EMI莫品质 - 证明“沉积-Sputter-沉积-Sputter”的工序连接的优秀性（Zero Defects化），因精密的机器设置及优秀的设备耐用性保持，维护周期长，价格便宜。

部件镀膜设备实现高大量生产率的高真空基础In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)产品 Loading可以，以In-Line Sputter工程的最佳化摸品质提高- 以Both Side Sputtering 实现,量产性和品质证明(透过率25%以上)，精密仪器安装及优秀设备耐用性保持,维修时间长,费用低廉。