Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 热蒸发薄膜沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。

用于高级研究的先进能力 Veeco 是原子层沉积 （ALD） 系统供应商，为研究和工业提供全面的服务和多功能的交钥匙系统，这些系统易于访问、经济实惠且精确到原子尺度。薄膜沉积是我们的专长。我们的 Savannah® 系列薄膜沉积工具就是这些能力的例证。

Phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业级制造的任何制造环境中实现高吞吐量和最长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上实现可重复、高精度的薄膜沉积。Phoenix®支持多达6条独立的前驱体生产线，可根据您的薄膜需求提供固体、液体或气体工艺化学成分。紧凑的占地面积和创新的设计使Phoenix®成为具有批量生产ALD要求的人们的实用选择。

产品概述： 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等组成。 设备用途： 脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。

产品概述： 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。 设备用途： 用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。

产品概述： 高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用可行软件控制系统。 设备用途： 用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。