适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统

适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积 数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 （IBD） 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量，并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，Veeco 已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当今先进的系统。IBD-LDD 系统是当今 EUV 掩模坯料上的钼 （Mo） 和硅 （Si） 多层沉积和钌 （Ru） 封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

EvoVac PVD 平台可以做任何您需要的事情。它有一个大腔室，可以配备您需要的任何源或工艺增强。EvoVac 物理气相沉积平台是我们具有可定制性的单腔室平台，因此它可以配备用于特定应用的工具，也可以成为适合您实验室中各种用户的多功能多源沉积主力。

EC400真空热蒸镀膜仪是一款功能全面的高真空蒸发镀膜设备，专为薄膜制备与研究设计。其核心组件包括真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得与测量系统、气路系统，以及先进的PLC+触摸屏自动控制系统。该设备采用一体化设计，将主机与控制单元紧密结合，不仅操作简便，而且结构紧凑，占地面积小，非常适合实验室环境使用。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统，Amod物理气相沉积平台开始允许更大的腔室投射距离，并能够适应更多的工艺增强功能。您的研究目标、生产需求和/或应用最终目标将告知如何装备您的 Amod PVD 平台。