通过采用结合空心阳极离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪，可实现了超精细结构的薄膜。

AE物理气相沉积平台Nexdep PVD在经济性和多功能性之间取得了平衡。它可以配备强大的工艺增强功能，而不会占用实验室的所有空间或预算。您的研究目标、生产需求和/或应用最终目标将告知如何装备您的 Nexdep PVD 平台。

科瓦普物理气相沉积平台COVAP PVD 为许多过程应用提供了紧凑、经济且仍然强大的解决方案。专为需要安全可靠的工具的实验室而设计，该工具可在紧凑的占地面积内生产可重复的高质量薄膜。沉积源被隔离，以减少热效应和交叉污染。配备了一整套可拆卸的腔室屏蔽层，以确保腔室易于清洁和维护。在腔室打开时，源、级功率和气动压力被切断，确保了优良的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以在独立配置中选择.

MS450高真空磁控溅射镀膜设备详细组成及功能如下： 真空室：提供高真空环境，确保镀膜过程的纯净性。 溅射靶枪：用于安装溅射靶材，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子溅射出来并沉积在样品上形成薄膜。 溅射电源：为溅射靶枪提供所需的电能，控制溅射过程的稳定性和效率。 加热样品台：用于加热样品，以改善薄膜的附着力和结晶质量。 流量控制系统：精确控制镀膜过程中所需气体的流量，确保镀膜成分的准确性

Ganister™ A离子束沉积设备，是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的专用产品，在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜，靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座，更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源，可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外，Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀，一个腔室内兼备两种工艺，显著提高

高真空电子束蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装，操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分（含低温泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。 本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属