Propel HVM GaN MOCVD 系统，用于电源、5G 射频和光子学，单晶圆反应器技术为电源、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的氮化镓基器件

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

Beneq TFS 200 是有史以来最灵活的原子层沉积研究平台，专为学术研究和企业研发而设计。Beneq TFS 200 经过专门设计，可最大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。

Beneq P1500 是我们最大的原子层沉积系统，专门用于涂覆大型板材和复杂零件。它还用于为较小组件的批次提供更高的吞吐量。我们的客户将 P1500 用于大直径基板上的光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

Beneq P800 专门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 P800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

Beneq P400A 专为以优化的批量大小涂覆不同类型的基材而设计 - 足够大以提供显着的容量，但又足够小以在批次和较短的循环时间内保持出色的均匀性。我们的客户将 P400A 用于光学镀膜和在玻璃或金属板上使用 ALD 的应用。