Beneq Transform 300 是一个高度通用的制造平台，面向致力于 CIS、电源、Micro-OLED/LED、先进封装和其他 MtM 应用的 IDM 和代工厂。它是一种高度可配置的解决方案，适用于多种高级薄膜应用，从栅极电介质到钝化和/或封装等。

碳化硅沉积系统G10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持双晶圆尺寸 – 为您的未来投资提供保障市场上最高的晶圆产量 / m2市场上晶圆出色的运行过程性能高度均匀、低缺陷的 SiC 外延工艺，可实现最大的芯片良率

化合物半导体沉积系统“行星式反应器模块，用于在150/200毫米衬底（Si/蓝宝石/SiC）上应用氮化镓，可提高生产率和晶圆性能”

化合物半导体沉积系统AIX G5 WW C“下一代碳化硅电力电子器件的最佳性能，以应对全球大趋势”高吞吐量批量外延与单晶圆控制 - 两全其美。

化合物半导体沉积系统AIX 2800G4-TM （IC2）“基于 GaAs/InP 的光电子学和射频应用的 HVM 最佳反应器”

金属有机源气相沉积系统MOCVD主要由真空室反应系统、气体（载气与气相有机源）输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。 MOCVD系统作为化合物半导体、超导等薄膜材料研究和生产的手段，特别是作为工业化生产的设备，有着其它半导体设备无法替代的优点。它的高质量、稳定性、重复性及多功能性越来越为人们所重视。