枚叶式PECVD设备CME-200E/400 枚叶式PE-CVD设备CME-200E/400是适用于Si系绝缘膜、barrier膜等成膜的量产用PECVD设备。

纵向式Cat-CVD设备CCV系列CCV Series是a-Si镀膜用的纵向式CVD设备。有30年以上的量产实绩。在各个chamber通过低压镀膜，得到高品质的膜质。

PD-100ST是一种用于研发的低温(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)等离子体增强CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。PD-100ST具有时尚、紧凑的设计，只需要小的洁净室空间。

PD-330STC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø300毫米晶圆的优良工艺均匀性，实现了高产量。

PD-270STLC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø236毫米的托架实现了高产量，可安装三个ø4英寸的晶圆。

PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100μm）。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计，只需要小的洁净室空间。