部件镀膜设备实现高大量生产率的高真空基础In-line Sputter

薄膜沉积镀膜系统Automotive Lamp Reflector是为了在汽车用HEAD LAMP部分提高AL的附着性,用Plasma,AL Sputter,CVD法实施SIO2 TOP Coating的设备,是缩短生产时间,前工序和最佳的MATCHING设备.

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我们但极其灵活的原子层沉积 （ALD） 系统，专为入门级到中级用户而设计。该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积，工艺室设计促进了均匀的母离子分散和输送。加热和温度控制进一步增强了系统性能。总体而言，该ALD150LE™在紧凑的设计中提供了的灵活性和性能，而不会牺牲可维护性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一种原子层沉积ALD 系统，专为高级研发 （R&D） 应用而设计。创新的ALD150LX设计功能，如我们的前驱体聚焦技术™，以及我们超高纯度 （UHP） 工艺能力等进步技术，提供了灵活性和性能。

Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 业界最高性能的金属有机物化学气相沉积系统MOCVD，可实现出色的均匀性和可重复性，以及低缺陷率。Veeco 提供了一系列 GaN 和 As/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，提高吞吐量，同时降低包括显示器、3D 传感、LiDAR、微型 LED 显示器和光学数据通信在内的各种应用的拥有成本。

用于 5G、光子学和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系统 全自动单晶圆簇系统可在 300 毫米基板上生产 5G 射频、光子学和高级 CMOS 器件。