Epiluvac 产品通常作为完整的系统交付，包括反应器模块、气体输送系统、过程控制、安全系统、安装和调试。每个系统在发货前都经过广泛的测试，一旦安装，交付还包括所有必要的客户操作和维护培训。

分子束外延薄膜沉积系统MBE 8000旨在满足对高性能化合物半导体器件日益增长的需求。这种在超高压环境中使用超纯金属的 8×6ʺ 或 4×8ʺ 固源 MBE 系统在设计、温度均匀性和通量均匀性方面超出了基本预期。该系统能够培养 8 个 150 毫米（6 英寸）晶圆或 4 个 200 毫米（8 英寸）晶圆的批次，这些晶圆具有显着的均匀性（成分、厚度）和非常低的缺陷水平。

Riber分子束外延系统的 multi 4“ / 6” MBE 6000 是全球每个成功的大批量商家或内部 epi 操作的核心。它是高通量和可重复性的MBE基准。活动时间通常超过一年，这证明了反应堆的稳定性和可靠性。没有比Riber的新客户和长期客户重复下订单更有力的认可了。有许多晶圆厂配备了 2 – 8 个 MBE 6000,24 / 7 并排运行。最初，系统主要用于制造大量微波器件材料。

分子束外延薄膜沉积系统MBE49全自动生产机器为材料质量、产量、产量以及与操作和维护相关的成本设定了行业标准。超过55个这样的系统已经在全球范围内交付，他们为客户带来的成功使该系列反应器获得了广泛持有和当之无愧的声誉，因为它使新的化合物半导体器件技术的商业化能够在其他地方的范围和规模上实现商业化。且有四个反应器，专门设计用于沉积砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。

RIBER分子束外延4 英寸中试生产系统正受到越来越多与工业合作伙伴合作开展应用项目的关键研究机构的关注。 这种兴趣的增加部分归因于 4 英寸（或 3 x 2 英寸）容量在这种类型的战略合作伙伴关系中受到青睐，在这些合作伙伴关系中，成功的里程碑基于设备演示和合格的试生产运行。 无论材料系统如何，412 都具有全自动样品转移、12 个源端口的灵活性和可重复的晶圆厂质量 ，专为实现这些目标而设计。

RIBERMBE分子束外延系统Compact 21 已成为有史以来最成功的商用 3 英寸 MBE 系统。凭借核心 Compact 21 DNA 在所有配置（III-V、II-VI、Gp IV、氧化物、金属、GSMBE）中都很明显，该多功能系统在从基础研究到设备开发和优化的每个研究领域都得到了完善的服务。它最多可容纳 12 个源端口，并且与电子枪兼容。这款整洁而强大的反应器可提供手动或全自动