产品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。 设备用途： 脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。

MARS iCE120 多片碳化硅外延系统，产能大，6 英寸运营成本低,薄膜和厚膜外延兼容，工艺稳定性高。

Hesper I E430R 12英寸单片减压硅外延系统，优异的气流场和加热场设计提供优良的工艺性能。

Hesper E230A 12英寸单片常压硅外延系统，优异的气流场和加热场设计提供优良的工艺性能。

Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸减压选择性外延系统，多区红外加热协同激光微区补偿，温场均匀可控。

Esther/Eris 系列 8英寸单片常压/减压硅外延系统，传输系统和工艺模块设计可兼容多种工艺用途，友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效，具有单腔和多腔两种机型，可满足不同客户需求。