EIS-1500是由ELIONIX研发的108mm的大直径光束，通过充分利用光束面内分布监控功能，可以实现各向异性干法蚀刻的离子束刻蚀机。

EIS-200ERP是由ELIONIX研发的离子束刻蚀机，紧凑和高性能，使用 ECR 离子束可以进行纳米蚀刻和沉积，制品特微。

可靠、快速和可重复的手动和自动检测 基于VoidInspect的自动气泡计算 易于使用的动态增强过滤功能，例如eHDR 使用micro3Dslice和FF CT软件的最佳层析成像技术 针对敏感器件的剂量降低套件和低剂量检测模式 市面上的超低占地面积

Pishow® D 系列深刻蚀设备，是针对8英寸~6英寸产线或科研深硅刻蚀工艺的专用设备，拥有自主开发的优化设计，保证了优异的刻蚀精度控制和损伤控制。 提供Si Bosch工艺的解决方案。 该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率，可帮助不同客户实现产能升级。

Kessel™ Pishow® M 金属刻蚀设备为可用于8英寸的IC产线铝金属工艺的量产型机台，基于自有开发的优化设计，保证了优异的刻蚀均匀性（片内8%，片间5%）和颗粒控制。在4微米厚铝刻蚀工艺中，可以提供8000片/月的产能。 该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率，可为客户产能升级提供帮助。

Tebaank® Pishow® P 硅刻蚀设备是面向8英寸集成电路制造的量产型设备 设备由电感耦合等离子体刻蚀腔（ICP etch chamber）以及传输模块（transfer module）构成 适用于0.11微米及其它技术代的多晶硅栅（poly gate）、侧墙（spacer）、浅沟槽隔离（STI）工艺