干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX 对应LED量产用的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科自有的星型电的干法刻蚀设备。

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570 研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H 高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800 量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。

RIE-1C是用于半导体芯片故障分析的紧凑型刻蚀设备。可以高效、低损伤地去除钝化膜。它操作简单，样品放置后只需按一下按钮就可以完成整个过程。可以放在桌面上，也可以选择用支架。

RIE-300NR是一种理想的RIE等离子刻蚀设备，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3“×12，ø4“×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求，提高产量，大限度地延长正常运行时间，并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。