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研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500 中电流离子注入装置IMX-3500为大能量200keV、对应大晶圆尺寸8inch的离子注入装置,适用于大学等机构的研究开发。
高能对应离子注入设备SOPHI-400 可达2400KeV的高能离子注入设备。
可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30 低加速、高浓度对应的离子注入设备。
离子注入机是高压小型加速器中的一种,应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子,经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流,用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入,还用于金属材料表面改性和制膜等。