GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用，可用于典型0.35um、0.18um工艺节点，可支持90nm工艺节点，可兼容6寸和8寸晶圆。

12英寸槽式清洗设备Pinnacle300平台适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示领域的清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给系统、电源柜等组成。传输模块将晶圆传送到位置，可同时传送50片，工艺模块用于清洗和蚀刻，药液供给模块用于高精度药液配比、加热、供给、浓度监测。

主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理

英思特长期致力于半导体等行业干湿制程设备、自动供/排液系统、甩干机等设备的设计、生产、销售及设备的优化。期待与您的合作！

设备介绍:硅芯清洗机本设备为柜体式腐蚀机,整台设备均采用进口件.基本材质:箱体材质:德国兹白色聚丙烯(PP) 门板材质:德国透明聚氯乙烯(PVC)腐蚀槽材质:德国自然色聚偏二佛乙烯(PVDF)清洗槽材质:德国自然色聚丙烯板(NPP)腐蚀槽配有美国聚四佛乙烯加热器,虹吸上排,传感器清洗槽配有溢流装置和N2鼓泡装置整机外形美观,实用

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