12英寸立式中高温氧化炉THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高温和超高温氧化和退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。THEORIS X302P主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。

Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系统具有与 LSA101 相同的架构，可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室在于它不需要使用真空负载锁。该系统能够运行任何惰性气体的混合物，包括合成气体。LSA201 适用于高 k 金属栅极结活化和镍硅化物形成等应用。

LSA 101 激光尖峰退火设备 系统安装的 IDM 和晶圆代工厂，是大批量制造 40nm 至 140nm 节点的先进逻辑器件的技术。LSA 101 的扫描技术基于 Veeco 的可定制 Unity 平台™构建，在均匀性和低应力处理方面具有根本优势。

由德国UNITEMP研发的用于 200 毫米（8 英寸）晶圆尺寸或 M10 182 x 182 毫米太阳能硅片的快速退火炉RTP-200。

由德国UNITEMP研发符合高真空标准的快速退火炉，升温速率高达 75 K/sec。，升温速率高达 150 K/sec。主要特点：良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制、台式系统，占地面积小。

由德国UNITEMP研发的真空快速退火炉RTP-150-EP，升温速率高达 150 K/sec。主要特点：良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制、台式系统，占地面积小。