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  • THEORIS X302系列12英寸立式中高温氧化炉

    12英寸立式中高温氧化炉THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高温和超高温氧化和退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统,工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。THEORIS X302P主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统,工艺处理过程实现了高度自动化系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。

    更新时间:2024-09-04
    型号:THEORIS X302系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:169
  • LSA 201 环境控制激光尖峰退火设备

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 (LSA) 系统具有与 LSA101 相同的架构,可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室在于它不需要使用真空负载锁。该系统能够运行任何惰性气体的混合物,包括合成气体。LSA201 适用于高 k 金属栅极结活化和镍硅化物形成等应用。

    更新时间:2024-09-06
    型号:
    厂商性质:经销商
    浏览量:127
  • LSA 101 激光尖峰退火设备

    LSA 101 激光尖峰退火设备 系统安装的 IDM 和晶圆代工厂,是大批量制造 40nm 至 140nm 节点的先进逻辑器件的技术。LSA 101 的扫描技术基于 Veeco 的可定制 Unity 平台™构建,在均匀性和低应力处理方面具有根本优势。

    更新时间:2024-09-06
    型号:
    厂商性质:经销商
    浏览量:128
  • RTP-200快速退火炉

    由德国UNITEMP研发的用于 200 毫米(8 英寸)晶圆尺寸或 M10 182 x 182 毫米太阳能硅片的快速退火炉RTP-200。

    更新时间:2024-09-05
    型号:RTP-200
    厂商性质:经销商
    浏览量:130
  • RTP-150-HV快速退火炉

    由德国UNITEMP研发符合高真空标准的快速退火炉,升温速率高达 75 K/sec。,升温速率高达 150 K/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制、台式系统,占地面积小。

    更新时间:2024-09-05
    型号:RTP-150-HV
    厂商性质:经销商
    浏览量:104
  • RTP-150-EP快速退火炉

    由德国UNITEMP研发的真空快速退火炉RTP-150-EP,升温速率高达 150 K/sec。主要特点:良好的温度均匀性、精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工艺周转时间短、舒适的气体控制、台式系统,占地面积小。

    更新时间:2024-09-05
    型号:RTP-150-EP
    厂商性质:经销商
    浏览量:131
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