单面抛光机是一款操作简单，兼容性强，搭配不同盘配合相应的液可实现多种半导体材料高精度抛光设备，抛光盘可定制，根据量产要求多种规格可选。

TSP-400/450/380晶片研磨机系列设备是落地式的高精度单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的高精密抛光。

双面抛光机分为双面机械抛光和双面化学抛光两种，分别代表双面抛光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面抛光，操作简单，搭配不同的夹具，抛光垫，抛光液可以实现不同材料，不同尺寸，不同厚度的晶片抛光。

钛宝石飞秒激光放大器的优势： 1.Astrella 提供更好的数据并降低整体数据成本。Astrella 具备高脉冲能量（高达 9 mJ）、短脉冲宽度（ 35 fs 或 100 fs）和出色的光束质量（M²： 1.25），从而支持二维光谱分析、太赫兹研究、飞秒微加工等领域 2.重复频率1 kHz 或 5 kHz 可选，每台激光器都集成了 Vitara 振荡器和 Revolution 泵浦激

深能级瞬态谱仪(DLTS) 技术优势： 1. 数字瞬态记录器最大采样 64000点 2. 数字瞬态记录器采样间隔 2us-4s 3. 耦合方式 提供28种耦合方式,包括Boxcar和Lock-in方式.一次变温即可得到28组曲线和数据点 4.单个温度点测试参数序列 单温度点设置18种测试参数序列,无需重复变温即可得到不同测试参数

离子研磨系统 产品概述： 为了对样品内部结构进行观察、分析，必须让样品内部结构显露出来，日立离子研磨装置使用大面积低能量的Ar离子束，加工出无应力损伤的截面，为SEM观察样品的内部多层结构、结晶状态、 异物解析、层厚测量等提供有效的前处理方法。